大动态范围面形测量：动态范围可达200μm，适应多种测量场景

FIS4 波前传感器具备最高 200μm 的大面形测量动态范围，突破传统波前检测设备量程受限的瓶颈，既能测量高精度、微小起伏的理想光学平面 / 球面，也可直接检测大形变、大矢高的样品，例如翘曲晶圆、厚基底光学件、大曲率光学元件。一套设备覆盖从纳米级面形误差到百微米级整体形变的检测需求，是宽量程面形检测系统的核心探

微纳轮廓测量：微小结构的轮廓形貌测量

FIS4 波前传感器是非接触式微纳轮廓形貌测量系统的核心探测单元，依托波前传感原理，捕捉微纳结构表面反射光的波前畸变，通过波前重建算法反演出样品三维轮廓。无需探针触碰样品，可对半导体刻蚀结构、MEMS 器件、微光学阵列等微小结构做高精度形貌、台阶高度、侧壁轮廓、表面粗糙度定量检测，是微纳制造工艺监控与成品验证

面形测量：检测光学平面和球面的面形精度

FIS4 波前传感器是高精度波前探测核心单元，可配合干涉系统完成大口径精密平面、球面光学元件的面形误差检测，把光学表面微小的面形起伏转化为可量化的波前数据，是光学元件出厂检验、抛光工艺调试、装调验证的关键测量器件。

多波段合束器件检测：检测不同波段合束后的波前质量

多波段合束（RGB 三色合束、多激光合束等）是将不同波长光束通过合束棱镜、滤光片、分光元件叠加为一束共轴输出光束。合束系统最终输出的总波前畸变，不是单个通道波前的简单叠加；不同波段元件镀膜应力、材料色散、棱镜面形误差带来的像差，会随波长不一样产生差异化畸变。FIS4 四波横向剪切干涉波前传感器，可直接对合束后

光学系统与元件检测

FIS4 检测透射波前，本质是直接量化光穿过元件之后的相位畸变，完整表征光学元器件真实工作性能；不仅用于产品合格判定，还能反向指导抛光、镀膜、装调工艺优化，把光学质量从 “表面指标管控” 升级到 “实际光路性能管控”。

光学加工 · 光镊系统

采用FIS4四波横向剪切干涉传感器与空间光调制器（SLM）构建闭环自适应光镊监测系统，实现光斑形态的实时调控与捕获稳定性增强。FIS4以非接触、瞬时全场波前检测方式，同步获取光镊输入光束由热漂移、机械振动及介质折射率起伏引入的动态像差，通过高速相位解算算法提取低阶与高阶Zernike系数，驱动SLM生成共轭相位补偿图样，对入射激光波前进行毫秒级预校正。该方案突破传统光镊依赖被动机械调焦的局限，可动态调节光斑尺寸、椭圆率、焦点轴向位置及多焦点阵列分布，适应不同折射率样本的球差自适应补偿，同时实时抑制环境扰动导致的焦点漂移。为高精度生物光子学与量子光学实验提供稳定可靠的光场监测平台。

光学加工 ·显微光波导制程

采用FIS4四波横向剪切干涉传感器开展显微成像波前检测，在光路中引入100倍物镜对光波导片进行高倍率显微成像，同步获取其透射波前信息。光波导片是集成光学与光通信领域的关键器件，微纳尺度的波前畸变将显著影响光信号传输效率与耦合精度。FIS4传感器基于四波横向剪切干涉原理，借助100倍高数值孔径物镜实现微米级分辨率的波前检测，将经物镜聚焦后的光束波前分割为四束具有纳米级横向位移的相干光，利用多方向干涉条纹完成透射波前的全场高精度重构。该方案无需参考镜，抗振动性能优异，可快速识别端面形貌误差、折射率分布不均及应力双折射导致的波前畸变。借助Zernike多项式拟合分析，能够定量提取离焦、像散、彗差等各阶像差，全面评价光波导片的加工质量与光学一致性，为集成光学器件的制造检测、品质控制及性能优化提供可靠的技术支撑。

光学加工 · 多次反射光学系统

采用FIS4四波横向剪切干涉传感器配合LED光源在多反射镜内部像差检测应用中具有显著优势。多反射镜系统广泛应用于光刻投影物镜、空间望远镜及激光谐振腔等精密光学装置中，其内部像差会严重劣化成像质量与光束传输性能。FIS4传感器基于四波横向剪切干涉原理，利用LED光源的宽光谱特性有效抑制相干噪声与散斑效应，提升干涉条纹对比度与测量稳定性。该方案无需参考镜，结构紧凑，抗振动能力强，可快速获取各反射镜的面形误差、装调偏差及累积像差。通过对波前数据进行Zernike多项式拟合分析，能够定量分离出离焦、像散、彗差、球差等各阶像差成分，全面评估多反射镜系统的光学质量与装调一致性，为高精度光学系统的制造检测、误差溯源及性能优化提供可靠的技术支撑。